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题名:
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计算光刻与版图优化 ji suan guang ke yu ban tu you hua / 韦亚一[等]著 , |
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ISBN:
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978-7-121-40226-5 价格： CNY79.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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10,238页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 电子工业出版社 出版日期： 2021 |
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内容提要:
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本书共7章,首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍,接着介绍集成电路物理设计(版图设计)的全流程,然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计,最后介绍设计与工艺协同优化。本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况,涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势,系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论,论述了版图设计与制造工艺的关系,以及版图设计对制造良率的影响,讲述和讨论了版图设计与制造工艺联合优化的概念和方法论,并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。 |
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主题词:
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集成电路工艺 电子束光刻 |
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中图分类法:
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TN405.98 版次： 5 |
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主要责任者:
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韦亚一 wei ya yi 著 |
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主要责任者:
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粟雅娟 su ya juan 著 |
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主要责任者:
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董立松 dong li song 著 |
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主要责任者:
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张利斌 zhang li bin 著 |
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附注:
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中国科学院大学研究生数学辅导书系列 |
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附注:
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集成电路技术丛书 |